В производстве микрочипов и микросхем легирующие добавки, вызывающие появление в кремнии p-n переходов, вводятся в кристаллы кремния в основном из газов. Бор и его соединения сравнительно малотоксичны, если не есть их ложками. А вот введение фосфора или мышьяка для создания полупроводников n-типа происходит в результате реакций с такими газами, как фосфин (фосфид водорода) и арсин (мышьяковистый водород). Которые относятся к чрезвычайно опасным соединениям. Используется большое число и других вредных веществ, учитывать и контролировать которые достаточно сложно.

Конечно, в чистой зоне, где работники в защитных костюмах проходят через обеспыливающие камеры, а полы моют деионизированной водой, все эти реакции происходят внутри оборудования. Но микродозы всё равно проникают в воздух производственных помещений, вызывая хроническое отравление работников. В числе которых традиционно основную массу составляют женщины, по ряду физиологических особенностей более подходящие для этой работы, но более подверженные влиянию вредных производственных факторов.

Как результат бесплодие, выкидыши, нарушения зрения, онкология и др. Отдалённые последствия могут проявляться спустя много лет после увольнения. Есть и другие способы создания p-n переходов, менее опасные для работников, но химический наиболее дешёвый и как результат, самый экономически целесообразный. Ситуация осложняется тем, что защитные костюмы и маски оберегают изделия от влияния человека, но практически никак не защищают самих работников.

В странах Западной Европы и США проблему решили весьма своеобразно, передав данные производства на аутсорсинг в Восточную и Юго-Восточную Азию. Где требования к охране труда менее жесткие, а плотность населения столь велика, что отдельные жертвы не особо сказываются на демографии. Что касается России, то данное производство у нас менее развито. Но из того, что есть, у меня знакомые работают в данной сфере и особо на здоровье не жалуются.